在后摩尔时代,具有先天性能优势的宽禁带半导体材料脱颖而出,以碳化硅和氮化镓为代表的宽禁带半导体,凭借其大幅降低电力传输中能源消耗的显著优势,成为全球半导体行业的研究热点。宽禁带半导体主要的市场在电力电子领域,在功率器件方面发挥重大作用。其导通损耗和开关损耗方面性能卓越,大大降低电力电子方面应用的能耗。
突出的耐高压、耐高温、低功耗等特性,使得大功率电源开发设计中越来越受欢迎,高功率密度和效率、高耐热性能的解决方案,以减少导通损耗和碳排放。宽禁带技术将推动电力电子器件提高效率、提高密度、缩小尺寸、减轻重量、降低总成本。
而PI的适用于电动汽车InnoSwitch3-AQ芯片就采用了宽禁带的GaN技术,满足新能源的发展需求,
在不同半导体的物理特性比较,发现宽禁带的GaN技术性能突出,未来发展的重点方向
宽禁带氮化镓技术在PI的Innoswitch系列中应用的比较多,适合大功率小尺寸要求的快充电源开发,案例经典成熟,支持功率可到120W