助力高级光刻技术：存储和运输EUV掩模面临的挑战

掩模光罩盒需要能够使用多年，因而它们必须满足当前和未来 EUV 光刻的要求。因此，现今的光罩盒设计人员应该考虑设计两款光罩盒，一款具有可容纳薄膜的空  间，另一款可在不添加薄膜的情况下使用。可通过添加薄膜袋来修改内光罩盒，但仍要满足光罩盒的整体尺寸和重量要求。

要设计与薄膜兼容的光罩盒，光罩盒制造商、薄膜供应商和光刻机制造商需要密切协作。自动化设备假定内光罩盒的重量变化范围很小，这意味着在为了制作薄膜袋而去除一部分材料后，必须在光罩盒的其他地方添加相近的重量。确定内光罩盒中接触点和窗口的位置时，必须考虑薄膜的几何结构。

薄膜极其易碎。在进行光刻操作期间，真空净化和通风会导致内光罩盒中发生压力变化。必须将此压差控制在特定阈值以下，从而过度偏转也不会损坏薄膜。在与薄膜兼容的内光罩盒中正确放置窗口可以提供可见性，这样光刻机就能够检测薄膜损坏情况。

EUV 设备必须能够处理带有或不带薄膜的掩模，并能够区分这两种掩模之间的区别。如果不小心将带有薄膜的掩模放入没有薄膜袋的光罩盒，将会对薄膜造成不可挽回的损伤。内光罩盒应包含相应设计功能，确保 EUV 设备中的摄像头能扫描并光学检测出光罩盒类型，从而降低错误识别光罩盒的风险。

总结

EUV 掩模光罩盒是一种高度专业化的设备，在 EUV 光刻中起着至关重要的作用。在使用、存储和运输过程中，它们必须保护掩模，同时确保不引入其他污染物或导致损坏。光罩盒必须与光刻设备兼容，还要能够保持为掩模提供干洁的环境。对于带有和不带薄膜的掩模，精确设计的双光罩盒配置可以实现这些目标，从而确保 EUV 光刻技术满足未来发展需求。