全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商及全球第一大芯片接口IP供应商、信息安全和软件质量的全球领导者新思科技(Synopsys, Inc.,纳斯达克股票市场代码: SNPS )宣布,新思科技 Custom Design Platform已经成功通过全球领先的先进半导体技术企业三星电子的认证,可用于三星7nm LPP(低功耗+)工艺。三星7LPP工艺是其首款使用极紫外(EUV)光刻的半导体工艺技术,与10nm FinFET相比,可大大降低复杂性,并提供更高的良率和更快的周转时间。新思科技定制设计工具已针对三星7LPP相关要求进行更新。此外,三星还将提供面向新思科技的工艺设计套件(PDK)和定制设计参考流程。
新思科技 Custom Design Platform已通过三星7LPP工艺技术认证。该平台以Custom Compiler定制设计和版图环境为核心,并包括HSPICE、FineSim SPICE和CustomSim FastSPICE电路仿真、StarRC寄生参数提取以及IC Validator物理验证。为了支持高效的7LPP定制设计,新思科技和三星共同开发了参考流程,其中包含一组使用说明,描述7nm设计和版图的关键要求。这些说明包括示例设计数据和执行典型设计和版图任务的步骤,涵盖的主题包括电气规则检查、电路仿真、混合信号仿真、蒙特卡罗分析、版图、寄生分析和电迁移。
为了通过三星认证,新思科技对工具进行了优化,以满足7nm设计的严苛要求,其中包括:
精确的FinFET器件建模与器件老化效应
先进的蒙特卡罗模拟功能,实现高效分析
用于模拟和RF设计的高性能瞬态噪声仿真
高性能的版图后仿真,实现寄生感知设计和仿真
用于器件电压检查的动态电路ERC
高性能晶体管级EM/IR分析,最大限度地减少过度设计
FinFET器件阵列的高效符号化编辑
EUV支持
基于覆盖的过孔电阻提取
三星营销团队副总裁Ryan Sanghyun Lee表示:“我们与新思科技的定制设计合作在过去两年中有了很大发展。通过此次通力合作,我们为7LPP工艺增添了新思科技Custom Design Platform支持,包括基于新思科技工具的定制设计参考流程。”
新思科技产品营销副总裁Bijan Kiani表示:“我们一直与三星紧密合作,以简化使用FinFET工艺技术的定制设计。我们合作推出了认证工具、参考流程、PDK、仿真模型和运行集,帮助三星客户能够使用7LPP工艺实现可靠的定制设计。”
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