Synopsys Design Platform通过三星 8LPP工艺技术认证

重点：

使用64位Arm® Cortex®-A53处理器对结果质量（QoR）进行优化，并进行三星 8LPP工艺设计流程认证。

Synopsys Design Platform为8LPP工艺的多次图形曝光光刻技术和全颜色感知变化技术提供完整的全流程支持。

通过三星先进晶圆代工生态系统（SAFE™）计划提供与Lynx设计系统兼容的已认证、可扩展的设计参考流程。

2018年5月31日，中国 北京——全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商及全球第一大芯片接口IP供应商、信息安全和软件质量的全球领导者Synopsys（NASDAQ： SNPS）宣布，Synopsys Design Platform已通过全球领先半导体技术企业三星电子的工艺认证，支持三星代工部门的8nm LPP（低功耗+）工艺。Synopsys Design Platform可以为8LPP工艺的多次图形曝光光刻技术和全颜色感知变化技术，提供完整的全流程支持。Synopsys的SiliconSmart®库表征工具是开发认证过程和参考流程所需基础IP的关键。认证过程还包括一套与Synopsys Lynx设计系统兼容的可扩展参考流程，流程包含自动化脚本和设计最佳实践案例。用户可以通过三星先进晶圆代工生态系统（SAFE™）计划获得该参考流程。

三星电子代工业务营销副总裁Ryan Lee表示：“在行业切换到EUV（极紫外）光刻技术之前，我们的8LPP工艺可以提供最具竞争力的工艺优势。Synopsys一直是我们在新工艺节点研发和赋能方面首选的合作供应商。此次将8LPP在性能、功耗和逻辑门密度方面的优势，与Synopsys Design Platform的高质量结果和时间优势相结合，可以使我们的共同客户设计出满足高性能、低功耗应用的最具竞争力的8LPP片上系统（SoC）产品。”

Synopsys设计事业群营销和业务开发副总裁Michael Jackson表示：“行业领先的客户已经部署经硅验证的Synopsys Design Platform去设计和生产速度更快、功耗更低的8LPP芯片。我们的参考设计流程通过三星 SAFE计划得到广泛应用，让设计人员可以快速、安心地通过Synopsys Design Platform切换到三星的8LPP工艺，充分利用8LPP更窄的金属间距所带来的结果质量优势。”

基于Armv8-A 架构的64位Arm Cortex-A53处理器，可以对结果质量（QoR）进行优化和流程认证。Synopsys Design Platform 8LPP参考流程的关键工具和功能包括：

• IC Compiler™ II布局和布线：多次图形曝光和颜色感知的物理实现流程，具有自动化电源及接地（PG）综合与设计内置的电压降感知改进。

• Design Compiler® Graphical RTL综合：具有布线拥塞改善和物理引导功能，与IC Compiler II密切关联。

• DFTMAX™和TetraMAX® II测试：基于FinFET、单元感知，以及基于时序裕量的在速转换测试，可获得更高的测试质量。

• Formality® 形式验证：基于UPF的等价性检查，状态转换验证。

• IC Validator signoff物理验证：高性能的DRC signoff 、LVS感知的短路查找器、signoff 填充、模式匹配，以及独特的设计内置（In-Design）验证，可以在IC Compiler II中自动修复DRC，以及实现准确感知时序的金属填充。

• PrimeTime®时序signoff: 具有模式合并、采用先进波形传播（AWP）的超低电压时序signoff、参量化片上变化（POCV）分析和感知布局规则的工程变更指令（ECO）指导等功能。

• StarRC™提取：多次图形曝光，全颜色感知变化和3D FinFET建模。

三星 SAFE™计划现在已可提供与Synopsys的Lynx设计系统兼容的经认证的可扩展参考流程。Lynx设计系统是一个全芯片设计环境，包括创新的自动化和报告功能，可帮助设计人员实施和监控其设计。它提供了一个生产级RTL-to-GDSII流程，可简化和自动化完成许多关键的设计实现和验证任务，使工程师能够专注于实现性能和设计目标。三星 SAFE™计划提供了三星代工经广泛测试的工艺设计工具包（PDK）和参考流程（包含设计方法）。